Ionenstrahlätzanlage

24Tage

Angebotsfrist10.09.2025 13:00 Uhr

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtstrukturierung und -abscheidung eine Ionenstrahlätz- und Beschichtungsanlage aus, welche zum Ätzen und Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat bis zum 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an...

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Auftrag­geber

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Vergabe­nummer (des Auftraggebers)

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Vergabe-ID (bei evergabe.de)

3234087
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Angebotsfrist10.09.2025 13:00 Uhr

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Ausführungsort (1)

  • 07745 Jena

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